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　　鍍膜種類劃分情況

　　鍍膜按類型劃分，首先可以分為：干式鍍膜和濕式鍍膜兩種。

　　其中干式鍍膜主要有：真空蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、真空離子鍍膜3種

　　真空蒸發(fā)鍍膜可細(xì)分為：

　　電阻蒸發(fā)鍍膜(適用于蒸發(fā)低熔點(diǎn)材料，如金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等)

　　電子束蒸發(fā)鍍膜(可蒸發(fā)難熔金屬，如鉬、鎢、鍺、二氧化硅、氧化鋁等)

　　高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)鍍膜(蒸發(fā)速率大，蒸發(fā)源溫度穩(wěn)定，操作簡(jiǎn)單，對(duì)材料純度要求較寬)

　　電弧加熱蒸發(fā)鍍膜(特別適用于熔點(diǎn)高，同時(shí)具有一定導(dǎo)電性的材料，如石墨;裝置簡(jiǎn)單，較廉價(jià)，缺點(diǎn)是放電產(chǎn)生的微米級(jí)顆粒會(huì)影響膜的一致性)

　　激光束蒸發(fā)鍍膜(可蒸發(fā)任何高熔點(diǎn)材料)

　　反應(yīng)蒸發(fā)鍍膜(蒸鍍難熔化合物，如氟化鎂、氧化鋇、氧化錫等)

　　濺射鍍膜可分為：

　　直流二極濺射：僅適用于導(dǎo)電膜

　　直流三極濺射：僅適用于導(dǎo)電膜

　　直流四極濺射：僅適用于導(dǎo)電膜

　　射頻濺射：采用射頻電源，可鍍氧化硅，氧化鋁材料

　　對(duì)向靶濺射：可提高沉積速率，制取磁性鐵、鎳和其他磁性合金膜

　　離子束(IBS)濺射：利用離子源發(fā)出離子

　　磁控濺射：

　　碳硫分析儀在直流二極濺射的基礎(chǔ)上，在靶材后面安放了磁鋼，使用弧光發(fā)

　　電，用于蒸發(fā)源。

　　真空離子鍍膜可分為：

　　陰極電弧離子鍍：提高了沉積速率和膜的質(zhì)量;還可生成致密均勻，附著力優(yōu)良的化合物膜

　　空心陰極離子鍍：使用空心陰極等離子電子束

　　多弧離子鍍

　　濕式鍍膜可分四種：

　　電鍍

　　陽極氧化

　　化學(xué)鍍

　　化學(xué)轉(zhuǎn)化膜處理

　　

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